拓荆科技股份有限公司从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备: PECVD设备和HTM PECVD设备,原子层沉积(ALD)设备:PEALD设备、HTM PEALD设备和Thermal ALD设备,次常压化学气相沉积(SACVD)设备:SACVD设备。公司成立于2010年,总部位于辽宁省沈阳市。
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